前言與背景
在數位化浪潮下,企業資訊基礎設施分散於雲端、OT、IoT、SaaS、遠端裝置及遺留系統,攻擊面隨之急速擴張與複雜化。Help Net Security 在 2025 年 7 月 18 日發布的報導指出,單靠傳統 CVE 管理與弱掃描工具已無法有效應對現今的資安威脅。企業必須轉型為「暴露管理」(Exposure Management)策略,才能真正掌握攻擊面、辨識最迫切風險並優先處理(Context‑Aware Discovery)。
為何攻擊面暴露管理如此複雜?
- 資產視覺複雜與動態性:企業資產涵蓋內部與外部多層結構:包含實體伺服器、筆電、雲端容器、OT系統、物聯網裝置等。這些裝置分布廣泛、短暫性高,加上 Shadow IT 難以監控,使安全團隊難以全面掌握攻擊面。
- CVE 不是全部漏洞來源:Verizon 調查顯示,去年只有約三分之一的資安事件牽涉已知 CVE。CVE 僅佔已識別漏洞的一小部分(約 0.5% 的 CVEs 被實際攻擊),但更高風險的常是配置錯誤、內部暴露資產、分割失敗等非 CVE 問題。
全域視角下的曝光管理策略
- 結合多種資產發現方式:暴露管理策略不應只依賴 agent 或憑證方式,而應融合主動掃描、被動偵測及 API 連接,才能涵蓋 shadow IT、OT、IoT 及無代理資產,取得完整攻擊面視圖。
- 建立資產指紋與風險輪廓:透過指紋辨識技術(fingerprinting)獲取每個資產的服務、擁有者、配置狀態、是否過期、是否弱預設密碼等資訊,形成富含上下文的資產輪廓,有助後續風險評估與優先級排序。
- 上下文風險排序優先處置:不只是 CVSS 分數,還要結合當前是否有被攻擊利用的威脅情報、品牌仿冒、資料洩漏跡象等因素,做分級報告,優先處理最迫切風險的暴露機點。
案例介紹:EASM 與 DRP 工具整合
雖報導並非針對特定工具,但類似 Outpost24 Sweepatic 與 CompassDRP 平台可同時整合 EASM 外部攻擊面管理和 DRP(Digital Risk Protection)功能,提供全面保護:
EASM:持續自動掃描網域、子網域、API、資料庫、DNS、令牌、遺留系統等並建立動態資產目錄;
DRP:監控公開網頁、社交媒體、暗網,偵測品牌仿冒、釣魚域名、洩漏資料或憑證等威脅蛛絲馬跡;
其中 EASM 識別資產後交由 DRP 監控,形成協同風險關聯系統,實現多層資訊整合與優先排序,提升偵測速度與應變效率。
持續暴露管理與 CTEM 策略
- 從靜態掃描到持續實時監控:傳統漏洞掃描多為點查工具,但組織資產與暴露狀態是動態變化中。採用 Continuous Threat Exposure Management(CTEM)或 Continuous Exposure Management(CEM)策略,可實時監控新資產與新威脅,持續更新優先處置清單。
- 整合漏洞測試與攻擊模擬技術:應用自動化攻擊模擬(如 Breach and Attack Simulation, BAS)驗證是否存在可被利用的漏洞、配置問題與權限錯誤。同時與 EASM 資訊整合,避免資安團隊只針對無效漏洞浪費資源。
- 資產資料集中管理與可操作流程
- 建立集中的攻擊面儀表板,整合掃描結果、風險評分、事件通報與修復任務管理,並與 SIEM、SOAR、Jira/ServiceNow 等系統整合,自動推送重點漏洞修復任務讓責任人執行。
台灣業者應思考的策略方向
- 導入全面曝光管理流程:業者應協助企業內部打造 EASM+CEM 框架,包括外部攻擊面發現、資產指紋、風險排序與持續監控,以提升客戶安全水平。
- 開發整合型平台與服務:可研發支援多元偵測技術(主動掃描、指紋辨識、暗網監控)的 SaaS 工具,並支援與現有 SIEM/SOAR/工單工具整合,協助企業提升資安運營效率。
- 加強資安可見化與報表儀表板:為 CISOs 和 IT 管理層提供可視、可比較的攻擊面暴露儀表板,包括行業基準、曝險趨勢、品牌仿冒活動資訊,提升決策支持。
- 借鏡國際案例與知識沉澱:可參考 Outpost24、runZero 和 XM Cyber 等國際作法,調整適用於台灣中小企業環境的解決方案與操作流程,加速導入與落地。
總結
在當前攻擊者快速掃描與利用未知資源的環境中,僅依賴 CVE 和傳統漏洞管理工具已無法保障安全。企業必須推動攻擊面暴露管理策略,從資產識別到上下文風險分析,再到持續監控與優化,整合 EASM、DRP 與持續暴露管理平台才能有效防禦現代資安挑戰。對於台灣業者而言,投入相關平台開發、流程設計與可視化方案,將能強化國內企業資安能級,也能拓展國際市場機會。
資料來源:https://www.helpnetsecurity.com/2025/07/18/attack-surface-exposure-management/